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第十届哈瓦那双年展将于3月27日举行

艺术中国 | 时间: 2009-03-17 08:53:36 | 文章来源: 美术报综合

  第十届哈瓦那双年展将于3月27日至4月30日在古巴首都哈瓦那举行。中国多位艺术家收到受邀参加此次展览的“英雄帖”。其中,刘小东在莫罗城堡将以个展的形式出现,陈波、仇晓飞、王承云、王庆松、熊宇、周文中则以群展形式呈现。

  本届双年展的主题为“全球化时代的整合与抵制”,关注全球化时代世界各国家和地区之间文化、艺术、思想、经济、政治各方面的融合和碰撞。本着促进该地区与其他地区文化艺术对话的目的,本次双年展邀请了40多个国家和地区的200多位艺术家。与之前一样,哈瓦那双年展的侧重点仍然集中在拉丁美洲和加勒比地区,但是中国等亚洲国家的艺术家也在逐渐增加。

  刘小东受邀前往哈瓦那后,他进行了为期一个多月的采风和创作。早在10年前,刘小东曾经到过古巴,这次重游古巴就变得令人期待了,刘小东的作品一直以现实主义题材呈现。这次展出的作品他将一如既往地抛却形式的浮华与宏大的叙事之外,将个体的真实与时代的荒谬紧密衔接。

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